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后期工艺路线如下,化合物9经氯磺酸处理得到
磺酰氯10,不分离直接用氨水处理得到磺酰胺11
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工艺中检出氯代杂质13,以及常规杂质或者中间态杂质14。
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不同厂家的
氯磺酸,杂质13检出水平不一样,推测氯磺酸中含有磺酰氯,不同厂家氯磺酸中含有的磺酰氯不一样
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Spike实验证实,氯磺酸中加入磺酰氯,杂质13会变大
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氯磺酸中磺酰氯的质量控制,直接气相分析方法不行,采用衍生方法,富电子的三甲氧基苯15,衍生产物16,具体检验结果如下
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化合物17经Kornblum氧化制备化合物18,还原羰基得到化合物20,羰基α位氟代得到化合物22
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制备化合物18过程检出杂质19,哪里来的乙酰基,源头调查发现2-甲基吡啶氮氧化物中含有醋酸残留(氮氧化物制备过程用到了醋酸)。
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制备化合物22过程,用到了氟试剂,Selectfluor,不同来源的物料中含有氯离子残留量不一样
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化合物20,氯离子残留的工艺控制(工艺用到了盐酸)和放行控制
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化合物25制备化合物26过程,有杂质28产生,体系检出量不大,但是很难在后续工序和后续步骤中去除。
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研究发现不同厂家的溶剂sulfolane,对杂质28有影响
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进一步研究发现溶剂sulfolane含有2-sulfolene
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不同厂家
环丁砜中检出2-sulfolene量不一样,工艺使用过程杂质28检出不一样,趋势是2-sulfolene含量越高,杂质28检出越小。

其他案例信息

案例2(ceftolozane)
参考文献
https://doi.org/10.1021/acs.oprd.4c00423
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