常用超纯水水处理系统工艺流程图

2024-03-18

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常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统。

常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统。

常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统。

常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图。

常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的纯水系统。

常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时，要求产水电阻率15～18.0MΩ·cm的的纯水系统。

撰稿人 | 芊澄科技

责任编辑 | 邵丽竹

审核人 | 何发

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